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挑戰1nm制程的竟是她!麻省教授、「北大才女」孔靜團隊發(fā)現原子級「鉍」密武器

孫首席
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來(lái)源:新智元



3nm,2nm, 1nm,先進(jìn)制程逐漸逼近「硅」的物理極限!近日,「北大才女」孔靜教授帶領(lǐng)團隊找到了代替「硅」的新興半導體材料——鉍(Bi),未來(lái)將挑戰1nm以下的制程,有助于突破「摩爾定律」極限。

「硅」達到物理極限,該怎么解?

這一困惑科學(xué)界的難題,近日就由「北大才女」孔靜教授領(lǐng)導的一支國際聯(lián)合攻關(guān)團隊「破解」!

他們成功攻克了半導體領(lǐng)域的二維材料的連接難題,研發(fā)出半導體新材料——半金屬鉍(Bi)。

這項成果將使晶圓的先進(jìn)制程從納米級,微觀(guān)到「原子級」。

新大陸「鉍」的發(fā)現者,攻克半導體「2D」材料連接難題

目前硅基半導體已經(jīng)推進(jìn)到5nm和3nm,IBM也剛剛宣布了突破2nm的「PPT 工藝」。

不過(guò),2nm之后就是1.5nm、1nm。

單位面積容納的晶體管數量,逐漸逼近硅材料物理極限,但是效能無(wú)法逐年顯著(zhù)提升。

幾十年來(lái),半導體行業(yè)進(jìn)步的背后存在著(zhù)一條金科玉律,即「摩爾定律」。

摩爾定律表明:每隔 18~24 個(gè)月,封裝在微芯片上的晶體管數量便會(huì )增加一倍,芯片的性能也會(huì )隨之翻一番。

然而,硅片觸及物理極限,除非找到新的方法,否則這些限制可能會(huì )使幾十年的進(jìn)展停滯不前。

盡管科學(xué)界對二維材料寄予厚望,卻苦于無(wú)法解決二維材料高電阻、低電流等問(wèn)題。

現在,麻省理工學(xué)院(MIT)的孔靜教授領(lǐng)導的國際聯(lián)合攻關(guān)團隊探索了一個(gè)新的方向:使用原子級薄材料鉍(Bi)代替硅,有效地將這些2D材料連接到其他芯片元件上。

這項最新研究「Ultralow contact resistance between semimetal and monolayer semiconductors」已發(fā)表在Nature期刊上。

孔靜教授是項目的領(lǐng)導者,研究方向制定者并設計了實(shí)驗,參與論文撰寫(xiě)。

論文地址:https://www.nature.com/articles/s41586-021-03472-9

其實(shí)這項研究是MIT、臺大、臺積電共同「合力」的成果。自2019年,這三個(gè)機構便展開(kāi)了長(cháng)達1年半的跨國合作。

這個(gè)重大突破先由孔靜教授領(lǐng)導的MIT團隊「發(fā)現」「二維材料」上搭配「半金屬鉍(Bi)」的電極,能大幅降低電阻并提高傳輸電流。

臺積電技術(shù)研究部門(mén)則將「鉍(Bi)沉積制程」進(jìn)行優(yōu)化。

最后,臺大團隊運用「氦離子束微影系統」將元件通道成功縮小至納米尺寸,終于獲得突破性的研究成果。

Bi 給「摩爾定律」續命?

鉍(Bi)是一種有望突破摩爾定律1nm極限的新材料!

這種材料被作為二維材料的接觸電極,可以大幅度降低電阻并且提升電流,從而使其能效和硅一樣,實(shí)現未來(lái)半導體1nm工藝的新制程!

未來(lái),「原子級」薄材料是硅基晶體管的一種有前途的替代品。

研究人員表示,他們解決了半導體設備小型化的最大問(wèn)題之一,即金屬電極和單層半導體材料之間的接觸電阻,該解決方案被證明非常簡(jiǎn)單,

即使用一種半金屬,即鉍元素(Bi),來(lái)代替普通金屬與單層材料連接。

這種超薄單層材料,在這種情況下是二硫化鉬,被認為是繞過(guò)硅基晶體管技術(shù)現在遇到的小型化限制的主要競爭者。

金屬和半導體材料(包括這些單層半導體)之間的界面產(chǎn)生了一種叫做金屬誘導的間隙(MIGS)狀態(tài)現象,這導致了肖特基屏障的形成,這種現象抑制了電荷載體的流動(dòng)。

使用一種半金屬,其電子特性介于金屬和半導體之間,再加上兩種材料之間適當的能量排列,結果是消除了這個(gè)問(wèn)題。

研究人員通過(guò)這項技術(shù),展示了具有非凡性能的微型化晶體管,滿(mǎn)足了未來(lái)晶體管和微芯片技術(shù)路線(xiàn)圖的要求。

「至少在不久的將來(lái),這可能足以擴展摩爾定律?!?/span>

臺大電機系暨光電所吳志毅教授表示,在使用「鉍(Bi)」為「接觸電極」的關(guān)鍵結構后,二維材料電晶體的效能,不但與「硅基半導體」相當,又有潛力與目前主流的硅基制程技術(shù)相容,有助于未來(lái)突破「摩爾定律」極限。

「北大才女」孔靜

孔靜教授目前是MIT電子工程和計算機科學(xué)系教授,同時(shí)也是電子研究實(shí)驗室(Research Laboratory of Electronics,RLE) 學(xué)術(shù)帶頭人。

她于1997年獲得北京大學(xué)化學(xué)學(xué)士學(xué)位,2002年獲得斯坦福大學(xué)化學(xué)博士學(xué)位。

從2002年到2003年,她是美國國家航空航天局埃姆斯研究中心的研究科學(xué)家;

從2003年到2004年,她是代爾夫特大學(xué)的博士后;

她于2004年加入麻省理工學(xué)院電子工程和計算機科學(xué)系。

在她的小組研究活動(dòng)包括CVD合成,石墨烯的特性和相關(guān)的二維材料,其電子和光學(xué)特性的研究和應用。

孔靜教授(左)和學(xué)生

孔靜教授的研究興趣集中在將單個(gè)碳納米管的合成和制造結合起來(lái),并將其集成到電路中的相關(guān)問(wèn)題。研究應用包括使用碳納米管作為極其敏感的化學(xué)傳感器來(lái)檢測有毒氣體。

孔靜教授是美國化學(xué)學(xué)會(huì ),美國物理學(xué)會(huì )和材料研究學(xué)會(huì )的成員。她在2001年獲得了2001年納米技術(shù)前瞻性杰出學(xué)生獎,在2002年獲得了斯坦福大學(xué)物理化學(xué)年度評論獎,并在2005年獲得了MIT 3M獎。

參考資料:

https://www.eecs.mit.edu/people/faculty/jing-kong

https://www.rle.mit.edu/people/directory/jing-kong/

https://m.toutiao.com/is/ePSDBum/

https://www.eet-china.com/kj/63360.html

https://www.cnbeta.com/articles/science/1130561.htm

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